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研磨/抛光

Buehler公司的研磨/抛光机性能优越,功能强大,具有广阔的适用性。研磨/抛光盘主要有三种直径8”, 10” 或12”,具体应根据每日制备试样的数量来选用合适的研磨/抛光盘。同时选择一个功能强大的研磨/抛光头也很关键,研磨/抛光头应具备程序控制的特点,可以单点和中心加载荷并能控制材料的去除。

在Vector® 研磨/抛光头和PowerPro® 研磨-抛光系统可以实现单点加载荷,这对目视监控材料的去除非常重要。每一个镶嵌的试样都可以在制备过程中取下以便于检查是否达到目标位置或感兴趣的平面。

PriMet®自动磨抛液分配系统是一种理想的研磨/抛光机的附件。磨抛液的分配量可以被控制,减少了浪费和个体差异,提高了试样制备的一致性。


恒温退火镍钛诺显示的马氏体组织 腐蚀剂:等份的HNO3 – 醋酸 – HF,Nomarski DIC下观察

 


镍钛诺彩色腐蚀后显示的奥氏体组织 腐蚀剂:84 mL水 – 16 mL HCl – 1 g NH4F•HF – 28 g K2S2O5 偏振光+感光下观察

 

 

Alpha™ 和Beta™ 研磨/抛光机
 
直径8" (203mm)和10" (254mm)的研磨/抛光机
双磨头,转速可调
稳固厚重的铸造底座能减少震动并增强了设备寿命
静音的皮带驱动系统
安装上VECTOR™ 或VECTOR™ LC研磨/抛光头就可升级为半自动试样制备系统

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Vector™动力头
 
8" (203mm)和10" (254mm) Alpha™和Beta™ 家族的研磨/抛光机级的半自动试样制备系统
半自动试样制备系统提高了效率增强了试样制备一致性
随材料和试验人员的不同,但试样制备的一致性保持不变
具备单点加载荷和中心加载荷模式
中心加载荷模式允许每任意一个试样能在制备过程中从夹持器中取下,以便于检查。也可以每次只制备一个试样
通过LED 显示屏来改变研磨/抛光时间

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PowerPro 3000, 4000, 和5000 系列的试样制备系统
 
功能强大的大型试样制备系统
最大能制备直径2" (50mm)的试样,较容易制备试样
Zaxis™ 材料去除系统可供选择
研磨/抛光头可调,单点和中心加载荷模式或中心加载荷模式
可编程,预存25套Buehler的试样制备方法或简单的两步研磨/抛光编程能力
根据试样数量和尺寸自动调整载荷
与直径10" (254mm)和12" (300mm)的磨盘兼容

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VibroMet® 2 振动抛光机
 
较轻柔的机械或化学 - 机械振动抛光方式,能在获得最佳试样平整度的同时保证最小的变形
振动抛光方式适合于所有的硬材料及其它材料
如同传统方法一样,可以快速去除残留在较软材料,例如金、铅、铜和银等表面的变形或划痕
可以制备出传统方法无法达到的5-10 微米厚度地质薄片试样
同时容纳十八个镶嵌试样或多个非镶嵌的大尺寸试样

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